Külmvaltsimise protsessi mõju keevisõmbluse korraldusele ja tööstusliku puhta titaanplaadi omadustele

Tööstuslikul puhtal titaanil on suurepärane korrosioonikindlus oksüdeerivas ja neutraalses keskkonnas ning seda on laialdaselt kasutatud erinevates valdkondades, nagu naftakeemia ja soola tootmine. Kirjanduses on teatatud, et tööstuslik puhas titaan, mis on valmistatud argooni kaarkeevitusõmbluse abil, eksisteerib sulamisbasseini piirkonnas, kuumusest mõjutatud tsoonis, organisatsiooni need kaks piirkonda ja lähtematerjali organisatsioon on väga erinevad, samas kui sulamisbasseini ala ja kuumusest mõjutatud tsoon tekib eelistatud korrosiooninähtuse korral. Plasmakeevituse eelisteks on kõrge energiatihedus, liinienergia, tõhusus ja nii edasi, selle puhta titaanplaadi keevitusmeetodiga saab ületada ühekäigulise volfram-argooni kaarkeevituse, kuna volframelektrood on sulabasseinist volframile lähemal. võib tekkida elektroodide korrosioon, nii et keevisõmblus imbub volframisulgudesse ja muudesse puudustesse.
Ettevõtte lehtede ja ribade tehase poolide tootmisliin, mis kasutab titaanirulli tootmiseks lehtkeevitustehnoloogiat, nii et külmvaltsitud spiraalitoodetes on palju deformeerunud keevisõmblusi, neid deformeerunud keevisõmblusi saab kasutada koos mähise teiste osadega koos pooli tavaline kasutamine mõjutab oluliselt mähise kasutamist. Teadlased keevisõmbluse töötlemise valdkonna ja alusmaterjalide valdkonna korralduse, jõudlusuuringud, mille eesmärk on keevitatud poolide tootmine võrdluse kasutamiseks.

Katsematerjaliks on 3,5 mm paksune tööstuslik puhas titaanplaat, klass TA1. Nertamatic 450 automaatse plasmakeevitusmasina abil keevitatakse kahe lõõmutatud puhta titaanplaadiga külmvaltsplaadi leht mõõtmetega 3,5 mm × 1350 × 1520 mm. XXH2005 Röntgenikiirguse veadetektor keevisõmblusel pärast prooviplaadi keevitamist, mittepurustavate vigade tuvastamine ja metallurgiline mikroskoop põhimaterjali ja keevisõmbluse mikrostruktuuri jälgimiseks. Kvalifitseeritud plaadi vigade tuvastamise ja kontrollimise tõttu 1780 mm külmvaltsimistehases kahe valtsimisprotsessi jaoks: esimene valtsimise deformatsioon 43%, plaadi paksus vähendatud 2 mm-ni, valtsitud 680 kraadi × 30 minutit / vahelduvvoolu lõõmutamine; teine ​​valtsimisdeformatsioon 50%, et saada valmistoote plaadi paksus 1 mm, valtsitud 650 kraadi × 30 min / vahelduvvoolu lõõmutamine.
Kahe valtsimisprotsessi plaatide keevisõmbluse töötlemispiirkonna röntgenkiirte mittepurustavate defektide tuvastamise kontroll; metallograafiline mikrostruktuuri vaatlus kahe valtsimisprotsessi, külmvaltsitud oleku ja keeviskeeviste lõõmutatud oleku kohta; proovikehade lõõmutatud oleku kaks valtsimisprotsessi kõvaduse ja toatemperatuuri mehaaniliste omaduste katse jaoks; mõõteriista Meters ETC1604 kuputamistesti kasutamine valmis plaadi lõõmutatud oleku mõõtmiseks kupustamise katse jaoks, et kontrollida protsessi toimivust; PARSTAT-2273 elektrokeemilise sünteesi testi kasutamine. 2273 elektrokeemiline integreeritud katsesüsteem (võrdluselektrood küllastunud kalomelelektroodiga, abielektrood plaatinaelektroodiga, korrosioonilahus on 3,5% NaCl vesilahus), anoodpolarisatsiooni test valmis lehe lõõmutatud olekus korrosioonikindluse uurimiseks. Testi tulemused:
(1) Puhta titaanplaadi keevisõmbluse kvaliteet pärast plasmakeevitust ja puhta titaanplaadi keevisõmbluse kvaliteet pärast kahekordset külmdeformatsiooni ja lõõmutamist vastab JB/T 4730.2 standardi Ⅰ nõuetele.
(2) Kahe külmdeformatsiooniplaadi lõõmutatud keevisõmbluse töötlemisala tera suurus on pisut väiksem kui alusmaterjali pindala, tugev plastilisus on veidi parem, Vickersi mikrokõvadus on samuti veidi suurem.
(3) Pärast kahe valtsimisprotsessi külmdeformatsiooniga lõõmutamist ei erine plaadi keevisõmbluse töötlemisala pikenemine palju alusmaterjali omast ja kupumisväärtus on sarnane, millel on võrreldav protsessi jõudlus aluse omaga. materjalist.
(4) Keevisõmbluse töötlemise tsooni anoodiline polarisatsioonikäitumine ei erine oluliselt lähtematerjali omast ja nende kahe korrosioonikindlus 3,5% NaCl vesilahuses on põhimõtteliselt sama.